PVD真空鍍膜裝飾薄膜常用材料及其常用氣體不同,制作出那些種類裝飾顏色...

13650537878 2023-08-28 15:04:20

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gsxq 2023-08-28 15:04:20

氣體選擇：PVD鍍膜過(guò)程中，常使用氮?dú)?、氧氣等氣體作為反應(yīng)氣體。氣體的選擇根據(jù)所需的薄膜成分和性質(zhì)來(lái)確定。沉積參數(shù)：PVD鍍膜的沉積參數(shù)包括靶材功率、沉積速率、沉積時(shí)間、沉積角度等。
PVD可以在不銹鋼、銅、鈦鋅鋁合金等金屬上鍍制CrN. TiN. TiAlCN. TiCN. TiAlN。
實(shí)現(xiàn)鈦金、玫瑰金、玫瑰紅、紫金等顏色的薄膜鍍膜通常需要不同的靶材和氣體組合，具體如下：鈦金薄膜：可以采用Ti、TiAl、TiAlZr等靶材，使用氮?dú)?、氧氣等氣體作為反應(yīng)氣體。
PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

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